Курсовая на тему Расчет высоковакуумной системы массмонохорматора с плазменным источником ионов

Автор: Андрей

Тип работы: Курсовая

Предмет: Физика

Страниц: 31

Год сдачи: 2012

ВУЗ, город: НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ «МИФИ»

Выдержка

Введение Ионная имплантация (ионное внедрение, ионное легирование) - введение примесных атомов в твёрдое тело бомбардировкой его поверхности ускоренными ионами. При ионной бомбардировке мишени происходит проникновение ионов в глубь мишени. Внедрение ионов становится существенным при энергии ионов Е>1 кэВ. Движущиеся частицы в результате многократных столкновений постепенно теряют энергию, рассеиваются и в конечном итоги либо отражаются назад, либо останавливаются, распределяясь по глубине. Энергетические потери обусловлены как взаимодействием с электронами мишени (неупругие столкновения), так и парными ядерными (упругими) столкновениями, при которых энергия передаётся атомам мишени в целом и резко изменяется направление движения частицы. Наиболее широко ионная имплантация применяется для легирования полупроводников с целью создания р-n-переходов, гетеропереходов, низкоомных контактов. Ионная имплантация позволяет вводить примеси при низкой температуре, в том числе примеси с малым коэффициентом диффузии, создавать пересыщенные твёрдые растворы.

Содержание

Введение 3 1. Схема конструкции вакуумной системы 6 1.1. Схема установки 6 1.2. Схема вакуумной системы 7 1.3. Описание работы установки 8 2. Методика расчета 9 2.1. Используемые в проекте формулы 9 3. Расчетная часть 10 3.1 Расчет высоковакуумной системы источника и ускорителя ионов 10 3.1.1. Исходные данные 10 3.1.2. Расчет идеальной системы без натекания 10 3.1.3. Расчет с учетом постоянного натекания 11 3.1.4. Расчет с учетом натекания, зависящего от времени 11 3.1.5. Выбор высоковакуумного насоса 14 3.1.6. Проверочные расчеты 14 3.2 Расчет высоковакуумной системы фильтра масс ионов 15 3.2.1. Исходные данные 15 3.2.2. Расчет идеальной системы без натекания 15 3.2.3. Расчет с учетом постоянного натекания 16 3.2.4. Расчет с учетом натекания, зависящего от времени 16 3.2.5. Выбор высоковакуумного насоса 18 3.2.6. Проверочные расчеты 19 3.3 Расчет высоковакуумной системы рабочей камеры 20 3.3.1. Исходные данные 20 3.3.2. Расчет идеальной системы без натекания 20 3.3.3. Расчет с учетом постоянного натекания 21 3.3.4. Расчет с учетом натекания, зависящего от времени 21 3.3.5. Выбор высоковакуумного насоса 23 3.3.6. Проверочные расчеты 24 3.4 Расчет низковакуумной системы 24 3.4.1. Исходные данные 24 3.4.2. Расчет низковакуумной системы 24 3.4.3. Выбор высоковакуумного насоса 25 4. Конструкторская часть 26 4.1. Фланцевое соединение 26 4.2. Вакуумный ввод поступательного движения 27 4.3. Вакуумный электрический ввод 28 4.4. Вакуумный оптический ввод 29 Заключение 30 Список литературы 31

Литература

1. Розанов Л. Н. «Вакуумная техника», Москва, «Высшая школа», 1982 2. Данилин Б.С. Минайчев В.Е Основы конструирования вакуумных систем – М Машиностроение, 1978 3. Джонсон В. А. Конструирование вакуумных вводов движения с механической связью. – М.: МИФИ, 1991. 4. Университетское вакуумное общество «Унивак» [Электронный ресурс]. - Режим доступа: http://www.vacuum.ru/ 5. Компания ИНТЕК \ Каталог оборудования [Электронный ресурс]. - Режим доступа: http://www.invac.ru/catalogue.shtml